SI 500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备，利用ICP高密度等离子源来沉积电介质薄膜。可在极低温度下（ 100ºC）沉积高质量SiO2, S...

QAM 系列镀膜设备是一种用于研究开发的精密溅射镀膜机，可用于各种基板上的包括磁性材料薄膜、超晶格薄膜的溅射镀膜制程

PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300高级版；Picosun 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。

PICOSUN 原子层沉积系统ALD R-200 Pro；PICOSUN R-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS...

PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版；系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件...

PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发，例如IC组件，MEMS器件，显示器，LED，激光和3D对象，例如透镜，光学器件，珠宝，...

SEMILAB-SE2000 全光谱椭偏测试平台基于椭圆偏振测试技术，采用良好的旋转补偿器，结合光纤专li技术将偏振光信号传输至分段光谱优化的高分辨率单色仪或阵...

SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E 基于椭圆偏振测试技术，采用良好的旋转补偿器，结合光纤技术将偏振光信号传输至分段光谱优化的高分辨率单色仪或阵列式多通道摄谱...

离子注入机由离子源、质量分析器、加速器、四级透镜、扫描系统和靶室组成，可以根据实际需要省去次要部位。离子源是离子注入机的主要部位，作用是把需要注入的元素气态粒子...

丹顿真空的Discovery系列在世界许多著名的研究机构得到广泛的应用，是业内*的灵活、可靠的磁控溅射系统。从15年前开发以来，该系统已经销售超过100台，在国...

目前，丹顿真空已为客户设计制造了总数超过5千台的各种规格的电阻/电子束蒸发、磁控溅射、离子束溅射/刻蚀和等离子体化学气相沉积镀膜系统，产品广泛应用于科研开发、小...

SI 500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备，利用ICP高密度等离子源来沉积电介质薄膜。可在极低温度下（ 100ºC）沉积高质量SiO2, S...